原理：
依据二极(DC)直流溅射原理。溅射电流调整控制器、微型真空气阀在工作时结合内部自
动控制电路控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体。根据电场中气体电离
特性，采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层均匀纯净。
参数：
? 主机规格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）
? 靶（上部电极）：金：50mm×0.1mm（D×H）
? 靶材：Au（标配）
? 样品室：硼硅酸盐玻璃 160mm×120mm（D×H）
? 靶材尺寸：Ф 50mm
? 真空指示表： 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
? 离子电流表： 大电流：50mA
? 定时器： 长时间：1-360s
? 微型真空气阀：可连接φ 3mm 软管
? 可通入气体： 多种
? 高电压： -2800 DCV
? 机械泵：标准配置 2L/S（国产 VRD-8）
用途：
适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。
特点：
1、简单、经济、、外观精美。
2、可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小。
3、SETPLASMA 手动启动按钮可预先设置好压强和溅射电流避免对膜造成不必要的损伤。
4、真空保护可避免真空过低造成设备短路。
5、同时可以通过更换不同的靶材（金、铂、铱、银、铜等），以达到更细颗粒的涂层。
6、通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层。
7、高压输出涂层牢固，特别适用于非导体材料实验电极制作。
